Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Multiscale approach for simulation of silicon etching using SF6/C4F8 Bosch process
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BSO - Titre
Multiscale approach for simulation of silicon etching using SF6/C4F8 Bosch process
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DOI
DOI
10.1116/1.4982687
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DOAI
DOAI
10.1116/1.4982687
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Identifiant WoS
WOS:000401122700013
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Accès ouvert
OA - Non
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Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Non OA
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Editeur
American Vacuum Society
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Source
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A
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ISSN
0734-2101
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Type de document
Article
XX
Notoriété
3 - Correcte
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INC - Institut de chimie
XX
uid:/B84SDG3L
12/10/2021 14:52:42 (latest)
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